等離子清洗機(jī)可以去除金屬表面的微氧化層嗎(等離子清洗機(jī)可以去除金屬表面的微氧化層嘛)

原標(biāo)題：等離子清洗機(jī)可以去除金屬表面的微細(xì)氧化層，且不易損傷表面敏感的有機(jī)層。

等離子清洗設(shè)備常用的工藝氣體有氧氣、氬氣、氮?dú)?、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等。等離子清洗設(shè)備對(duì)氣體電離產(chǎn)生的等離子體進(jìn)行清洗、活化和改性，以達(dá)到最佳的處理效果。今天我們就來(lái)了解一下相關(guān)的工藝氣體。

1、氧氣：氧氣是等離子清洗中常用的活性氣體。屬于物理+化學(xué)處理。電離產(chǎn)生的離子可以物理轟擊表面，形成粗糙表面。同時(shí)，高活性氧離子可與斷裂的分子鏈發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成帶有活性基團(tuán)的親水表面，實(shí)現(xiàn)表面活化；

2.氫氣：氫氣與氧氣類似，是一種高反應(yīng)性氣體，可以活化和清潔表面。氫和氧的主要區(qū)別在于反應(yīng)后形成的活性基團(tuán)不同。氫氣具有還原性，可用于去除金屬表面的微氧化層，且不易損傷表面敏感的有機(jī)層。

3、氮?dú)猓旱獨(dú)怆婋x形成的等離子體可以與某些分子結(jié)構(gòu)發(fā)生關(guān)鍵反應(yīng)，因此它也是一種反應(yīng)性氣體，但與氧氣和氫氣相比，其顆粒相對(duì)較重。通常，這種氣體在等離子清洗機(jī)應(yīng)用中被定義為介于活性氣體氧氣、氫氣和惰性氣體氬氣之間的氣體。

等離子清洗設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)如下：

1、在需要鍵合之前，根據(jù)工藝選擇通過微波等離子體源進(jìn)入的反應(yīng)氣體，然后離子等物質(zhì)與表面有機(jī)污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成廢氣，由真空泵抽走。經(jīng)過測(cè)試，清洗前后的表面張力都發(fā)生了變化。一個(gè)大的改變，有助于提高表面附著力；

2、噴涂前進(jìn)行等離子清洗處理，提高噴涂效果；

低溫等離子體技術(shù)在處理氣態(tài)污染物方面具有顯著的優(yōu)勢(shì)。其基本原理是在電場(chǎng)加速作用下產(chǎn)生高能電子。當(dāng)電子的平均能量超過待處理分子的化學(xué)鍵能時(shí)，分子鍵就會(huì)斷裂，從而清潔氣態(tài)污染物。返回搜狐查看更多

編輯：